{"id":555849,"date":"2024-11-05T18:12:21","date_gmt":"2024-11-05T18:12:21","guid":{"rendered":"https:\/\/pdfstandards.shop\/product\/uncategorized\/vdi-vde-5575-blatt-4\/"},"modified":"2024-11-05T18:12:21","modified_gmt":"2024-11-05T18:12:21","slug":"vdi-vde-5575-blatt-4","status":"publish","type":"product","link":"https:\/\/pdfstandards.shop\/product\/publishers\/din\/vdi-vde-5575-blatt-4\/","title":{"rendered":"VDI\/VDE 5575 Blatt 4"},"content":{"rendered":"
Diese Richtlinie bezieht sich auf reflektive R\u00f6ntgenoptiken, die auf der Nutzung der Totalreflexion sowie auf Multischichtsystemen auf Basis der Braggreflexion an inneren Grenzfl\u00e4chen zur Beeinflussung der spektralen Zusammensetzung und der Richtungscharakteristik beruhen. Die physikalischen Prinzipien und bestimmende Parameter dieser R\u00f6ntgenspiegel werden beschrieben. Die Rolle und der Einfluss von Substrat und Beschichtung werden im Detail erl\u00e4utert und Totalreflexions- und Multischichtspiegel f\u00fcr verschiedene Anwendungen diskutiert. Die gebr\u00e4uchlichsten r\u00f6ntgenoptischen Systeme, die R\u00f6ntgenspiegel nutzen, wie Kirkpatrick-Baez-, Wolter-, Schwarzschild-, Montel- und EUVL-Optiken, werden kurz vorgestellt. Diese Richtlinie wendet sich an Anwender, Entwickler und Hersteller von R\u00f6ntgenspiegeln. Typische Anwendungsgebiete sind Laborger\u00e4te, die R\u00f6ntgenstrahlung z.B. f\u00fcr Diffraktion, Spektroskopie, Streuung, Tomografie und Mikroskopie nutzen, aber auch die Instrumentierung f\u00fcr Synchrotronstrahlung an Elektronenspeicherringen und Freie-Elektronen-Lasern. Weitere Anwendungsfelder sind die EUV-Lithografie und die R\u00f6ntgenastrophysik.*www.vdi.de\/5575<\/p>\n","protected":false},"excerpt":{"rendered":"
R\u00f6ntgenoptische Systeme – R\u00f6ntgenspiegel und R\u00f6ntgenspiegelsysteme – Totalreflexions- und Multischichtspiegel<\/b><\/p>\n\n\n
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